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產(chǎn)品中心

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單片濕法制程設(shè)備

刷片機(jī)

全自動(dòng)刷片機(jī)主要用于6、8英寸襯底片及外延片的過(guò)程清洗,去除晶圓上殘留的物理顆粒。設(shè)備主要由(浸泡)上料臺(tái)模塊、對(duì)中翻轉(zhuǎn)模塊、刷洗工藝腔體、下料臺(tái)模塊、可橫向移動(dòng)雙臂機(jī)械手模塊、供排液系統(tǒng)、排風(fēng)系統(tǒng)、中央控制系統(tǒng)等組成。刷洗工藝腔體具備Brush刷洗、高壓二流體清洗、氮?dú)獯蹈?、離心甩干等功能。減少人為因素對(duì)清洗過(guò)程的干擾,保證片間均勻性,滿足晶圓表面顆粒度目標(biāo)要求。


產(chǎn)品詳情

特點(diǎn)&優(yōu)點(diǎn) 

u  設(shè)備可實(shí)現(xiàn)6、8英寸晶圓兼容

u  設(shè)備能實(shí)現(xiàn)晶圓正反面的自動(dòng)翻轉(zhuǎn)與清洗;

u  設(shè)備可選擇配置有濕進(jìn)干出或者干進(jìn)干出;

u  每個(gè)腔室采用獨(dú)立空間,避免交叉污染;

u  腔室流場(chǎng)控制技術(shù),保證廢氣及時(shí)排出;

u  專(zhuān)利刷頭設(shè)計(jì),有效避免晶圓劃痕的產(chǎn)生;

u  刷頭潤(rùn)濕及自清潔技術(shù),避免引入顆粒;

u  設(shè)備集成4套、6套刷洗腔體,產(chǎn)能最高可達(dá)80片/小時(shí);

u  SiC片表面顆粒去除能力可達(dá)到particle(@0.3um)≤5ea;

u  多級(jí)軟硬件安全互鎖,操作安全

u  軟件及硬件模塊化設(shè)計(jì)

u  實(shí)時(shí)記錄生產(chǎn)數(shù)據(jù),多種數(shù)據(jù)分析功能

u  工藝柔性化設(shè)計(jì),工藝更改方便迅速

u  設(shè)備占地面積小

u  支持?jǐn)U展SMIF自動(dòng)傳輸

u  軟件支持SECS GEM接口,支持EAP  MES等功能(選配)

u  多路視頻監(jiān)控和錄像功能(選配)

u  靜電消除功能(選配)

u  優(yōu)化配管設(shè)置,節(jié)約DIW消耗量

u  多工藝數(shù)據(jù)庫(kù),可供用戶使用和存儲(chǔ)

u  自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的軟件系統(tǒng)

u  擁有多項(xiàng)軟件著作權(quán)

u  PC上位機(jī)和PLC觸摸屏的控制和人機(jī)交互界面

u  系統(tǒng)自動(dòng)排程,多工位并發(fā)處理,高效率運(yùn)行

u  工藝預(yù)置,過(guò)程數(shù)據(jù)記錄和生產(chǎn)管理

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