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       8月26日，據(jù)盛美半導(dǎo)體設(shè)備公司（以下簡稱“盛美半導(dǎo)體”）官微消息，盛美半導(dǎo)體發(fā)布新產(chǎn)品——Ultra ECP GIII電鍍設(shè)備，以支持化合物半導(dǎo)體(SiC,GaN)和砷化鎵(GaAs)晶圓級封裝。

       盛美半導(dǎo)體稱，這是首臺應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體制造中晶圓級封裝和電鍍應(yīng)用的電鍍設(shè)備。

圖片來源：盛美半導(dǎo)體官微

       據(jù)官微介紹，該系列設(shè)備能將金（Au）鍍到背面深孔工藝中，具有更好的均勻性和臺階覆蓋率。Ultra ECP GIII配備全自動平臺，支持6英寸平邊和V型槽晶圓的批量工藝，同時結(jié)合盛美半導(dǎo)體的第二陽極和高速柵板技術(shù)，可實現(xiàn)最佳性能。

       盛美半導(dǎo)體的Ultra ECP GIII設(shè)備通過兩項技術(shù)來實現(xiàn)性能優(yōu)勢：盛美半導(dǎo)體的第二陽極和高速柵板技術(shù)。第二陽極技術(shù)可通過有效調(diào)整晶圓級電鍍性能，克服電場分布差異造成的問題，以實現(xiàn)卓越的均勻性控制?？蓱?yīng)用于優(yōu)化晶圓邊緣區(qū)域圖形和V型槽區(qū)域，實現(xiàn)3%以內(nèi)的電鍍均勻性。

       據(jù)披露，盛美半導(dǎo)體的Ultra ECP GIII已取得來自中國化合物半導(dǎo)體制造商的兩個訂單。第一臺訂單設(shè)備采用第二陽極技術(shù)的銅-鎳-錫-鍍銀模塊，且集成真空預(yù)濕腔體和后道清洗腔體，應(yīng)用于晶圓級封裝，已于上月交付。第二臺訂單設(shè)備適用于鍍金系統(tǒng)，將于今年下一季度交付客戶端。
 
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