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全自動RCA自動清洗機

發(fā)布時間:2023-03-27發(fā)布人:

全自動RCA自動清洗機

  作為半導體晶片清洗行業(yè)使用最多的工藝之一,RCA清洗工藝的存在已有多年的歷史。最初,人們使用的清洗方法沒有可依據(jù)的標準和系統(tǒng)化。1965年, RCA(美國無線電公司)研發(fā)了用于硅晶圓清洗的RCA清洗法,并將其應用于 RCA元件制作上,該清洗法成為以后多種前后道清洗工藝流程的基礎,以后大多數(shù)工廠中使用的清洗工藝基本是基于最初的RCA清洗法。

  RCA清洗法依靠溶劑、酸、表面活性劑和水,在不破壞晶圓表面特征的情況下通過噴射、凈化、氧化、蝕刻和溶解晶片表面污染物、有機物及金屬離子污染。在每次使用化學品后都要在超純水(UPW)中徹底清洗。

RCA設備特點

  1、采用PLC自動控制,根據(jù)客戶需求,設有多道配方供客戶選擇;

  2、具有手動模式和自動模式切換功能;

  3、前置式機械手傳輸,機械和電氣雙重限位卡控,定位精度高、傳送平穩(wěn)、運行可靠;

  4、有PVC/PP/SUS304等多種不同材質類型的機臺;可根據(jù)藥液性質和工藝需求進行選擇;

  5、工藝槽可根據(jù)客戶需求配備噴淋、溢流、循環(huán)、拋動、轉動、盤管冷卻、超聲清洗等不同的產品工藝;

  6、機臺外殼門板上裝有透明視窗,方便觀察機臺內的運行情況;

  7、機臺內配有依客戶需求定制的甩干機,可直接于Bench主屏幕完成一系列操作。

RCA設備工藝

  A、噴淋:利用高壓水,快速沖洗產品上殘留的藥液;

  B、溢流:槽體邊沿成鋸齒形,槽內純水一直溢流;

  C、循環(huán):利用循環(huán)泵使槽內藥液一直保持流動狀態(tài),使清洗效果更好;

  D、拋動:槽內裝有拋動機構,使產品與藥液接觸效果更好;

  E、轉動:槽內裝有轉動機構,使產品在槽內自轉,防止產品有清洗不到位的地方;

  F、盤管冷卻:槽內裝有冰水盤管,更好的保證槽內溫度的穩(wěn)定性;

  G、超聲清洗:主要是利用超聲波的強力沖擊效應,對附著在產品表面的物質進行清洗;

  H、熱氮烘干:通過高溫的離子風,使產品表面的殘留水漬快速烘干;

  I、傳輸方式:PLC控制機械手左右移動,上下運行,具備倒車功能。

設備總體組成及其結構

  如圖所示,設備結構主要由機架、工藝槽體、機械手傳輸系統(tǒng)、排風系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、水路系統(tǒng)及氣路系統(tǒng)以及甩干機模塊等組成。

  根據(jù)工藝槽性質的不同,設備的相應的處理也有一些差異:

  (1)設備機架采購不銹鋼304方管骨架構成;

  (2)殼體根據(jù)工藝槽藥液性質的不同,分為耐火PVC,瓷白PP板,以及SUS304板包覆;

  (3)電控區(qū)設置在機臺的后上部,與中部和底部的管路、氣路區(qū)完全隔離;

  (4)槽體材質也根據(jù)藥液性質的不同,分為石英、PTFE、PVDF、SUS 316、NPP等材質;

  (5)機械手伸入制程區(qū)的部分均作防酸、防堿、防有機腐蝕處理;

  (6)設備的排風系統(tǒng)由調風板和風腔以及風閥組成。風閥位于機臺頂部或者后方,可根據(jù)工藝的不同選用自動風閥和手動風閥兩種;風腔與機臺殼體滿焊而成,內側做有倒流管道,防止水汽在腔體內凝聚,無法正常排放;調風板位于制程區(qū)槽體后側,為可調節(jié)結構,通過調節(jié)調風板控制抽風量的大小。


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