半導(dǎo)體設(shè)備，光刻機(jī)一枝獨(dú)秀

到處肆虐的半導(dǎo)體寒風(fēng)在ASML的投資者日會(huì)議上戛然而止，接連上修的營(yíng)收展望、持續(xù)推進(jìn)的產(chǎn)能擴(kuò)大計(jì)劃、強(qiáng)勁的未來(lái)需求，就連摩根士丹利分析師Lee Simpson也在近日大喊加碼，ASML的周圍充滿了春天生機(jī)盎然的氣息，這與一眾在半導(dǎo)體寒冬中瑟瑟發(fā)抖的設(shè)備廠商相比，顯得尤為“格格不入”。

這家光刻機(jī)龍頭似乎總有一股魔力，哪怕在10月份，整體半導(dǎo)體設(shè)備廠商的股價(jià)都步入低谷之際，ASML依舊讓投資機(jī)構(gòu)給出了超凡的估值。Khaveen Investments在10月11日的報(bào)告中，給出了ASML 24.29x的企業(yè)估值數(shù)據(jù)，而他們認(rèn)為半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)平均EV / EBITDA （EV/EBITDA 又稱企業(yè)價(jià)值倍數(shù)，是一種被廣泛使用的公司估值指標(biāo)）僅為12.37 x，是 ASML的一半，其余KLA、Lam Research、應(yīng)用材料、Tokyo Electron (TEL)等幾家設(shè)備巨頭的估值甚至皆未達(dá)到均值。

                                                                                                                            圖源：Khaveen Investments

自2018年后，光刻機(jī)的熱度就喧囂塵上，但在眾多半導(dǎo)體設(shè)備中，光刻機(jī)突出的，可遠(yuǎn)不止它的超高話題度…

一枝獨(dú)秀的光刻機(jī)廠商

雖然常有半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈“賣鏟人”之稱，但今年半導(dǎo)體設(shè)備廠商也并不好過(guò)，此前《市值暴跌的半導(dǎo)體設(shè)備巨頭》一文指出，今年以來(lái)，下滑的需求，腰斬的市值、消退的熱情、縮減的資本都讓半導(dǎo)體設(shè)備廠商處于水深火熱之中。即便近一個(gè)月設(shè)備廠商們的股價(jià)有所回升，但籠罩在他們未來(lái)展望上的陰霾卻并沒(méi)有消散。

TEL甚至4年來(lái)首度下砍財(cái)測(cè)。11月10日，TEL發(fā)布新聞稿稱，因總體經(jīng)濟(jì)放緩疑慮、地緣政治風(fēng)險(xiǎn)，導(dǎo)致半導(dǎo)體廠商的設(shè)備投資出現(xiàn)暫緩/抑制傾向，造成營(yíng)收預(yù)估將遜于原先預(yù)期，因此今年度（2022年4月至2023年3月）合并營(yíng)收目標(biāo)自原先預(yù)估的2.35兆日?qǐng)A下砍2,500億日?qǐng)A至2.1兆日?qǐng)A，合并營(yíng)益目標(biāo)自7,160億日?qǐng)A下修1,700億日?qǐng)A至5,460億日?qǐng)A，合并純益目標(biāo)也自5,230億日?qǐng)A下修1,230億日?qǐng)A至4,000億日?qǐng)A。

除此之外，Lam Research此前估計(jì)明年損失20億至25億美元收入；KLA初估明年?duì)I收損失達(dá)9億美元；AMAT雖然還未公布季度財(cái)報(bào)，但在過(guò)去幾個(gè)月，分析師一直看跌他們的盈利前景，九次向下修正盈利預(yù)測(cè)，投資機(jī)構(gòu)Zacks預(yù)測(cè)每股盈利為 1.73 美元，表明收益同比下降約10%。

然而，在這“愁，愁，愁”的氛圍中，ASML和佳能兩家光刻機(jī)廠商卻展現(xiàn)出了前所未有的產(chǎn)業(yè)生機(jī)。

ASML：營(yíng)收預(yù)測(cè)“向上而生”

由于看好市場(chǎng)對(duì)先進(jìn)芯片生產(chǎn)設(shè)備的需求強(qiáng)勁，ASML于11月10日上調(diào)了2025年的營(yíng)收展望，預(yù)估到2025年時(shí)營(yíng)收將達(dá)300億-400億歐元（約309至412億美元），高于之前預(yù)估的240億-300億歐元，也優(yōu)于分析師平均預(yù)估的320億歐元。ASML還指出，未來(lái)十年的業(yè)績(jī)將持續(xù)增長(zhǎng)，到2030年時(shí)的銷售目標(biāo)為440億-600億歐元，并持續(xù)提高產(chǎn)能。

按照ASML 2021年186億歐元的營(yíng)收估算，到了2025年ASML營(yíng)收增長(zhǎng)率為61.3%-115%，到2030年?duì)I收增長(zhǎng)率為136.6%-222.6%。雖然這個(gè)數(shù)據(jù)看起來(lái)很嚇人，但對(duì)于ASML來(lái)說(shuō)，可能只是屬于正常增長(zhǎng)，因?yàn)檫^(guò)去十年，它就是這么成長(zhǎng)而來(lái)的。2012年，ASML營(yíng)收僅為47.32億歐元，到了2016年就已經(jīng)增長(zhǎng)至68.75億歐元，由此來(lái)看，2012-2021十年間，ASML營(yíng)收成長(zhǎng)率高達(dá)295.7%，而2016-2021五年間，成長(zhǎng)率則為169.6%。事實(shí)證明，現(xiàn)實(shí)數(shù)據(jù)只會(huì)更加驚人。

                                                                                                                            圖源：《光刻機(jī)巨頭ASML的十年變遷》

想要實(shí)現(xiàn)這樣的營(yíng)收預(yù)期，產(chǎn)能的擴(kuò)充自然是必不可少的。一直以來(lái)，ASML的光刻機(jī)都處于一個(gè)供不應(yīng)求的狀態(tài)，產(chǎn)能越多，營(yíng)收才能更多，尤其那些適用于先進(jìn)制程的EUV、High NA EUV設(shè)備，雖然制作難度上升，但相對(duì)的價(jià)格也是水漲船高。從ASML擴(kuò)產(chǎn)計(jì)劃來(lái)看，到2025-2026年EUV年產(chǎn)能增加到 90 臺(tái)，過(guò)去十年間，ASML EUV出貨量從2012年的1臺(tái)，增長(zhǎng)到了2021年的42臺(tái)，隨著產(chǎn)能的增加，未來(lái)五年/十年EUV的出貨量肯定也會(huì)取得顯著增長(zhǎng)。

到2027-2028年，ASML還計(jì)劃將 High-NA EUV 產(chǎn)能增加到 20 個(gè)系統(tǒng)，據(jù)路透社此前報(bào)道,新一代High-NA EUV設(shè)備訂價(jià)約4億美元，上一代EUV光刻機(jī)售價(jià)大約1.2億美元，這就意味著High-NA EUV設(shè)備售價(jià)提升了兩倍多。今年年初ASML收到來(lái)自英特爾的最新款High-NA EUV「EXE:5200」首張訂單，英特爾預(yù)計(jì)到2025年該設(shè)備加入量產(chǎn)，除英特爾外，目前臺(tái)積電、三星等一線晶圓廠也都已預(yù)購(gòu)了High-NA EUV 。

與EUV/High-NA EUV相比，DUV就便宜了很多，平均每臺(tái)售價(jià)約0.28億歐元，但這并不妨礙其成為此次擴(kuò)產(chǎn)的主力軍。ASML計(jì)劃到2025-2026年，DUV 系統(tǒng)的年產(chǎn)能增加到600個(gè)，幾乎是2019-2021年ASML 3年的DUV出貨總量，數(shù)據(jù)顯示，2021年ASML共出貨了234臺(tái)DUV光刻機(jī)，2020年共出貨193臺(tái)，2019年共出貨169臺(tái)，三年總計(jì)596臺(tái)，可見(jiàn)此次ASML擴(kuò)產(chǎn)力度不可小覷。

佳能：產(chǎn)能翻番

在光刻機(jī)的擴(kuò)產(chǎn)方面，并不是只有ASML在行動(dòng)，“落魄”的光刻機(jī)貴族佳能居然時(shí)隔21年宣布擴(kuò)產(chǎn)計(jì)劃。之所以說(shuō)“落魄”，想必大家都知道，佳能光刻機(jī)在上世紀(jì)也是一方霸主的存在，但在干濕路線之爭(zhēng)之后，佳能就有些趕不上ASML的步伐了，尤其在EUV設(shè)備領(lǐng)域，更是難以望其項(xiàng)背。

在過(guò)去相機(jī)是佳能的主營(yíng)業(yè)務(wù)，但近些年全球數(shù)碼相機(jī)業(yè)務(wù)持續(xù)下滑，佳能也難免受到?jīng)_擊，而光刻機(jī)業(yè)務(wù)卻逐漸成為了增長(zhǎng)動(dòng)力，畢竟據(jù)華爾街日?qǐng)?bào)去年年底報(bào)道，1995年制造的二手光刻機(jī)佳能FPA3000i4，在2014年10月只值10萬(wàn)美元，今天則值170萬(wàn)美元，漲價(jià)17倍。二手的都這么搶手，一手的更不用多說(shuō)了。

目前，佳能主要在宇都宮事務(wù)所（宇都宮市）和阿見(jiàn)事務(wù)所（茨城縣阿見(jiàn)町）等2處日本工廠生產(chǎn)半導(dǎo)體光刻設(shè)備，專注于i-line到KrF的低端光刻機(jī)系列。佳能財(cái)報(bào)顯示，未來(lái)隨著半導(dǎo)體設(shè)備投資的增加，佳能的光刻機(jī)業(yè)務(wù)還會(huì)持續(xù)增長(zhǎng)。

或許是覺(jué)得“與其讓黃牛賺這個(gè)錢還不如讓我自己賺”，又或許是受到地緣政治的影響，也有可能是力壓的NIL（納米壓印光刻）技術(shù)有了突破性進(jìn)展，總之，這個(gè)曾經(jīng)的光刻機(jī)龍頭時(shí)隔21年宣布擴(kuò)產(chǎn)。

據(jù)日經(jīng)新聞網(wǎng)10月初報(bào)道，佳能將在宇都宮事務(wù)所內(nèi)約7萬(wàn)平方米的空地上建設(shè)半導(dǎo)體光刻設(shè)備的新工廠，包括廠房建設(shè)費(fèi)用和生產(chǎn)設(shè)備在內(nèi)的總投資額預(yù)計(jì)達(dá)到540～560億日元左右，將于2023年內(nèi)開(kāi)工建設(shè)，產(chǎn)能將提高至現(xiàn)在的2倍，力爭(zhēng)2025年春季投入運(yùn)行。

                                                                                                                                          圖源：日經(jīng)中文網(wǎng)

值得注意的是，日經(jīng)新聞網(wǎng)還指出，新工廠還計(jì)劃開(kāi)發(fā)新一代設(shè)備，這新一代設(shè)備就是上述提到的NIL設(shè)備，NIL是一種復(fù)制納米尺度特征的有效技術(shù)，2003年就被添加到ITRS路線圖中，作為NIL技術(shù)的擁護(hù)者，佳能早在2004年就開(kāi)始這項(xiàng)技術(shù)的研發(fā)，目前已經(jīng)在存儲(chǔ)領(lǐng)域取得了顯著進(jìn)展（和佳能共同開(kāi)發(fā)的NIL技術(shù)的鎧俠已掌握NIL 15nm的制程量產(chǎn)技術(shù)，目前正在進(jìn)行15nm以下技術(shù)研發(fā)，預(yù)計(jì)2025年進(jìn)一步達(dá)成）。據(jù)悉，為了實(shí)現(xiàn)NIL系統(tǒng)的快速升級(jí)，佳能還應(yīng)用機(jī)器學(xué)習(xí)和AI技術(shù)進(jìn)一步提高系統(tǒng)性能，提高生產(chǎn)力，并實(shí)現(xiàn)更自主的控制?；蛟S，佳能NIL設(shè)備的量產(chǎn)已經(jīng)指日可待了。

不得不承認(rèn)，近期內(nèi)佳能在光刻機(jī)領(lǐng)域的布局并不少，今年4月初，日經(jīng)新聞還報(bào)道稱，佳能正在開(kāi)發(fā)用于半導(dǎo)體3D技術(shù)的光刻機(jī)，新產(chǎn)品通過(guò)在原基礎(chǔ)上改進(jìn)透鏡和鏡臺(tái)等光學(xué)零部件，來(lái)提高曝光精度，曝光面積達(dá)到原產(chǎn)品的4倍。為了增加布線密度，新產(chǎn)品還提高了分辨率，支持1微米的線寬。不過(guò)，該新產(chǎn)品最早于2023年上半年上市，從時(shí)間來(lái)看，或許還是在原有廠房?jī)?nèi)制造。

產(chǎn)能方面，佳能預(yù)測(cè)2022年半導(dǎo)體光刻設(shè)備的銷量比上年增長(zhǎng)29％，增至180臺(tái)，最近10年內(nèi)激增至4倍，建設(shè)新工廠后，2個(gè)基地的總產(chǎn)能將增至約2倍。產(chǎn)能和研發(fā)兩手抓的佳能，能否在未來(lái)擴(kuò)大自己光刻機(jī)的市占率，我們也拭目以待。

尼康雖然暫未傳出擴(kuò)產(chǎn)消息，但據(jù)日經(jīng)新聞8月報(bào)道，尼康預(yù)計(jì)2025財(cái)年（截至2026年3月）將把半導(dǎo)體光刻機(jī)主力機(jī)型的年銷量增至截至2021財(cái)年（截至2022年3月）3年平均銷量的2倍以上，以2023年上市的支持3D半導(dǎo)體的新產(chǎn)品為中心，開(kāi)拓英特爾以外的日本、中國(guó)大陸、臺(tái)灣客戶。雖然并非是尖端的光刻機(jī)，但尼康認(rèn)為通過(guò)支持3D實(shí)現(xiàn)附加價(jià)值，可以提高在行業(yè)里的影響力。

光刻機(jī)為何如此“耐打”

同為半導(dǎo)體制造不可或缺的設(shè)備，為什么光刻機(jī)就如此“耐打”？筆者分析，主要有以下三大原因：

原因一：先進(jìn)制程設(shè)備的訂單比產(chǎn)能擴(kuò)張計(jì)劃更具黏性。

光刻技術(shù)是芯片制造工藝中最關(guān)鍵的一步，芯片技術(shù)之所以能在過(guò)去60年間，一步步從百微米發(fā)展到如今的3nm，光刻機(jī)功不可沒(méi)，沒(méi)有光刻機(jī)，摩爾定律或許無(wú)法延伸到現(xiàn)在。在芯片制造過(guò)程中，光刻機(jī)身處最前道，只有通過(guò)光刻機(jī)把掩膜版上的電路圖轉(zhuǎn)移到晶圓表面的抗蝕劑膜上，才能進(jìn)行后續(xù)的化學(xué)顯影、定影、清洗和檢測(cè)等工序，沒(méi)有光刻機(jī)，再優(yōu)秀的芯片設(shè)計(jì)也只會(huì)是“鏡中花，水中月”，無(wú)法轉(zhuǎn)換成對(duì)我們有用的芯片。

而對(duì)于臺(tái)積電、三星、英特爾等一線晶圓代工廠來(lái)說(shuō)，想要搶在競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手前面率先取得先進(jìn)制程的突破，繞不開(kāi)光刻機(jī)，畢竟“巧婦難為無(wú)米之炊”，沒(méi)有先進(jìn)的光刻機(jī)就不可能制造出采用先進(jìn)制程工藝的芯片，所以大廠們才會(huì)在去年年底就開(kāi)始爭(zhēng)先下單ASML High-NA EUV。High-NA EUV作為進(jìn)入到未來(lái)2nm，甚至是“埃米時(shí)代”的入場(chǎng)券，只有擁有了它，玩家才有資格參與到下一輪的先進(jìn)制程斗爭(zhēng)中。

這也是開(kāi)頭Lee Simpson在低迷市場(chǎng)情勢(shì)下大喊加碼ASML的原因所在，Lee Simpson認(rèn)為，ASML比大多數(shù)同行有更好的條件挺過(guò)去，因?yàn)橄冗M(jìn)工具的訂單往往比產(chǎn)能擴(kuò)張計(jì)劃更具黏性。他指出，盡管ASML知道更廣泛芯片業(yè)的需求有些疲軟，但它可以證明自己深具韌性，此前大量積壓的訂單可以支撐到2023年，屆時(shí)供應(yīng)鏈條件改善可提高毛利率，而且ASML的EUV具有戰(zhàn)略性質(zhì)。

原因二：存儲(chǔ)業(yè)務(wù)占比相對(duì)較少，晶圓代工需求旺盛。

近期設(shè)備廠商之所以步履薄冰，最大關(guān)鍵點(diǎn)就是受到短期內(nèi)個(gè)人計(jì)算機(jī)和智能手機(jī)需求放緩影響，臺(tái)積電、SK海力士、美光、英特爾等芯片廠商都在放緩資本支出。這其中，以存儲(chǔ)廠商資本支出縮減最為嚴(yán)重，存儲(chǔ)芯片是一個(gè)市場(chǎng)周期波動(dòng)性比較大的行業(yè)，面對(duì)當(dāng)前不景氣的終端市場(chǎng)，包括SK海力士、美光、鎧俠、南亞科在內(nèi)眾多存儲(chǔ)廠商大幅縮減資本支出，動(dòng)蕩的下游市場(chǎng)自然對(duì)設(shè)備廠商產(chǎn)生了極大的影響，因?yàn)樵趶S商的資本縮減中，設(shè)備投資減少首當(dāng)其中。

Khaveen Investments數(shù)據(jù)顯示，存儲(chǔ)業(yè)務(wù)是Lam Research最大的業(yè)務(wù)，61%的營(yíng)收來(lái)自于此；TEL的存儲(chǔ)收入占了51.3%，TEL日前下修財(cái)測(cè)的原因中就包括了內(nèi)存廠商變更或延后設(shè)備投資；AMAT的存儲(chǔ)收入則占了40%；相比下ASML 29.8%的存儲(chǔ)收入占比遠(yuǎn)低于其他幾家設(shè)備廠商，因此其受到的資本縮減影響也相對(duì)較少。

                                                                                                                                 圖源：Khaveen Investments

另一方面，雖然晶圓代工廠的資本支出也所有縮減，但從長(zhǎng)期來(lái)看，芯片制造競(jìng)爭(zhēng)加劇，美歐日韓中等多地區(qū)都在努力扶植本土的芯片生產(chǎn)，將促成芯片產(chǎn)業(yè)所需產(chǎn)能的提高。Khaveen Investments根據(jù)各大廠商透露的消息，預(yù)計(jì)存儲(chǔ)芯片制造商的資本支出將在2023年下降，而邏輯芯片制造商的資本支出將在2023年回升。

TrendForce也指出，2022 年晶圓代工產(chǎn)值成長(zhǎng)來(lái)自市場(chǎng)需求，市場(chǎng)疲弱造成庫(kù)存調(diào)整，沖擊 2023 年產(chǎn)值僅成長(zhǎng) 2.7%。即便如此，2023 年晶圓代工產(chǎn)業(yè)產(chǎn)值仍會(huì)持續(xù)成長(zhǎng)，因臺(tái)積電預(yù)計(jì)市占逼近六成，加上強(qiáng)勢(shì)漲價(jià)與高單價(jià) 3 nm制程晶圓挹注，使臺(tái)積電有高個(gè)位數(shù)成長(zhǎng)，帶動(dòng) 2023 年晶圓代工產(chǎn)值成長(zhǎng)。這無(wú)疑又給邏輯芯片占據(jù)大頭的光刻機(jī)廠商增添了底氣。

原因三：歐日廠商主導(dǎo)光刻機(jī)市場(chǎng)，受美國(guó)禁令影響比純美系廠商小。

目前，全球三大光刻機(jī)廠商分別是ASML、佳能和尼康，其中ASML屬于歐洲廠商，佳能和尼康則均為日本廠商，這點(diǎn)從彭博社此前統(tǒng)計(jì)的芯片設(shè)備制造商命運(yùn)因地點(diǎn)而異的圖表就可以體現(xiàn)出。

                                                                                                                                                圖源：彭博社

據(jù)彭博社報(bào)道，分析師預(yù)計(jì)Lam Research、KAL、AMAT這三家美國(guó)公司的明年收入下降幅度將超過(guò)日本同行。Lam Research 已經(jīng)預(yù)計(jì)2023年在華收入減少20億-25億美元，KAL也初估受美禁令影響明年?duì)I收損失達(dá)9億美元，雖然日本的TEL營(yíng)收也受到了影響，但相比上述三家，影響較少。

從ASML財(cái)報(bào)來(lái)看，中國(guó)大陸在2021年的時(shí)候就不是ASML的最大銷售市場(chǎng)，銷售額僅為 16%。據(jù)路透社報(bào)道，ASML首席執(zhí)行官 Peter Wennink 上周五對(duì)投資者表示，如果中國(guó)芯片制造商無(wú)法將產(chǎn)能擴(kuò)大到當(dāng)前水平以上，ASML也不會(huì)改變其 2030 年的營(yíng)收預(yù)測(cè)。Wennink表示：“雖然我不愿意看到，但如果地緣政治形勢(shì)是這樣，如果中國(guó)被排除在任何增長(zhǎng)之外，但芯片需求還是在那里，晶圓廠將會(huì)建在其他地方。雖然這可能會(huì)存在短暫的問(wèn)題，但最終我們?nèi)孕枰圃爝@些芯片?！?/p>

而從某種意義上說(shuō)，ASML在中國(guó)市場(chǎng)上空出的份額，有一定幾率由佳能和尼康來(lái)填補(bǔ)，畢竟目前來(lái)看，這兩家廠商的光刻機(jī)主要屬于中低端系列，受到美國(guó)禁令影響更小。

寫在最后

大家都知道半導(dǎo)體行業(yè)是周期性的，雖然現(xiàn)在行業(yè)整體都處于下行周期，但總有一天會(huì)迎來(lái)轉(zhuǎn)折點(diǎn)，迎來(lái)新契機(jī)。不過(guò)，那都是未來(lái)的事情了，沒(méi)有當(dāng)下，何談未來(lái)？

因此，現(xiàn)下我們需要考慮的就是如何度過(guò)低迷時(shí)期，總結(jié)光刻機(jī)之所以“耐打”，就是因?yàn)樗銐驈?qiáng)。技術(shù)夠強(qiáng)，所以能在半導(dǎo)體制造中有著舉足輕重的地位；ASML也因?yàn)閴驈?qiáng)，所以客戶更具黏性。當(dāng)然，本土廠商除了勤修內(nèi)功，努力變強(qiáng)外，還需要多元化布局，即便是存儲(chǔ)、邏輯雙重布局的設(shè)備巨頭都因比重問(wèn)題受到了不小的影響，更不用說(shuō)單一性布局的其他廠商了，在特殊時(shí)期，受到的影響只會(huì)更大。

轉(zhuǎn)載微信公眾號(hào)：半導(dǎo)體行業(yè)觀察

聲明：本文版權(quán)歸原作者所有，轉(zhuǎn)發(fā)僅為更大范圍傳播，若有異議請(qǐng)聯(lián)系我們修改或刪除：zhangkai@cgbtek.com