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國產EDA新突破 東方晶源推出計算光刻云方案

東方晶源微電子科技（北京）有限公司（以下簡稱“東方晶源”）發(fā)布首款基于云端的EDA計算光刻平臺——AeroHPO全流程協同優(yōu)化系統，成為國產EDA和一體化良率解決方案“云”部署先行者。該系統沿用東方晶源自主研發(fā)、全球率先工程應用的“全芯片反向光刻掩模優(yōu)化（ILT）”技術，同時依托于公有云平臺，可為客戶提供28nm及以下技術節(jié)點的制程建模、基于ILT的掩模優(yōu)化、設計規(guī)則與掩模規(guī)則檢查（DRC/MRC）、光源掩模聯合優(yōu)化（IRO）、嚴格物理光刻仿真、DPT 版圖拆分及光刻性能檢查（LRC）等全產品線功能與服務。AeroHPO是東方晶源現有基于私有計算集群的計算光刻解決方案的有力補充，該系統在易獲得性和靈活的收費方式等方面具有顯著優(yōu)勢，可為高校和科研院所等提供便捷的EDA和計算光刻教學與科研平臺，同時也為中小型芯片設計與制造企業(yè)提供更為經濟和靈活的解決方案。

東方晶源的AeroHPO全流程協同優(yōu)化系統，不僅解決了掩模優(yōu)化設計問題，而且具有上游EDA工具以及下游缺陷分析和良率控制系統的可擴展性和兼容性，提供了從芯片設計到制造一體化的DTCO綜合平臺。截至目前，該系統已經在合作伙伴北京超級云、華為云和騰訊云等公有云上完成測試。AeroHPO的上線，將進一步完善國產EDA解決方案，加速國產替代，并實現超越。

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